چین گام بزرگی در جهت خودکفایی در صنعت نیمههادی برداشت و تولید انبوه دستگاههای لیتوگرافی فرابنفش عمیق (DUV) را آغاز کرد. نخستین نمونههای این تجهیزات پیشرفته در سال جاری میلادی به تولیدکنندگان بزرگی مانند SMIC، هوا هونگ و چانگشین تحویل داده میشود.
بر اساس گزارش وبسایت اینفورمیشن، برنامهریزی تولید برای ساخت حدود پنج دستگاه در سال ۲۰۲۶ و نزدیک به ۲۰ دستگاه در سال ۲۰۲۷ هدفگذاری شده است.
دستاورد جدید چین در شرایطی محقق میشود که لایحهای در کنگرهی آمریکا در جریان است تا دسترسی خریداران چینی را به خدمات و تجهیزات شرکت هلندی ASML بهطور کامل قطع کند. سه خریدار نخست تجهیزات بومی جدید، در فهرست تحریمهای ایالات متحده قرار دارند.
توسعهی این فناوری با ادغام تیمهای تخصصی چند شرکت چینی از جمله استارتاپ دولتی یولیانگشنگ انجام شده و SMIC از پاییز گذشته در حال آزمایش یکی از این ابزارها بوده است.
بخش عمدهی قطعات بهکاررفته در سیستمهای جدید، ساخت خود چین هستند، هرچند تأمین برخی قطعات حیاتی همچنان به ژاپن وابستگی دارد. تأخیر در زنجیرهی تأمین محلی، حجم تولید سال جاری را با محدودیت مواجه کرده است. دستگاههای لیتوگرافی بومی توانایی چاپ الگوهای ۲۸ نانومتری را با یکبار نوردهی دارند و با روش الگودهی چندگانه میتوانند به تراشههای ۷ نانومتری دست یابند.
سهم بازار چین از فروش خالص ASML در سال جاری به ۲۰ درصد کاهش یافته که نسبت به سهم ۳۳ درصدی در سال گذشته، نمایانگر یک افت معنادار است. کارشناسان معتقدند فرآیند تأیید و انطباق دستگاههای جدید چینی با خطوط تولید ممکن است ماهها زمان ببرد. کیفیت ساخت و عملکرد تجهیزات بومی چین هنوز با استانداردهای جهانی فاصله دارد و پروژهی ساخت دستگاههای پیشرفتهتر EUV در این کشور همچنان سالها با تجاریسازی فاصله دارد.
